Sapphire là công ty đầu tiên giới thiệu các giải pháp tản nhiệt trên nền Vapor Chamber cho các bo mạch đồ họa máy tính, công nghệ này trước đây thường chỉ được sử dụng cho máy bay hoặc các máy chủ cao cấp. Hệ thống tản nhiệt Vapor-X được Sapphire chính thức giới thiệu lần đầu tiên vào năm 2007 trên VGA HD 3870 ATOMIC Edition và ngay lập tức đã tạo lên tiếng vang lớn, bắt đầu một xu thế mới cho các giải pháp tản nhiệt đồ họa, các sản phẩm tiếp theo cũng gặt hái thành công ấn tượng không kém là TOXIC HD 3870 và HD 4870.
Vapor-X với nền tảng là công nghệ Vapor Chamber sử dụng một thiết kế khác của công nghệ ống dẫn truyền nhiệt (heatpipe) phổ biến, các chất lỏng đặc biệt sẽ tiếp xúc với bề mặt nhiệt độ cao sau đó luân chuyển theo định hướng của nhà thiết kế để lan tỏa nhiệt độ ra các vùng khác với tốc độ nhanh nhất có thể, giải quyết vấn đề nhiệt độ hiệu quả mà đơn giản hơn.
Vapor-X của Sapphire được thiết kế dạng phiến mỏng chứ không phải dạng ống như truyền thống, do đó có thể áp sát và lấy đi nhiệt độ tỏa ra từ các GPU nhanh nhất có thể và không thông qua các bước trung gian, do đó nhiệt độ của toàn bộ GPU được giải quyết triệt để hơn kể cả so với việc áp sát hàng loạt ống kim loại vào GPU, nó loại trừ hoàn toàn các vùng trống, Nói cách khác thì về hình thức nó tương tự như việc bạn dùng các giải pháp tản nhiệt chất lỏng khác là áp ngay toàn bộ bề mặt vào GPU và lấy đi nhiệt độ nhanh nhất có thể, nhưng ở đây Sapphire Vapor-X vẫn áp dụng phần còn của hệ thống tản nhiệt khí, giúp hệ thống vẫn gọn gàng trong khi hiệu quả tản nhiệt tốt hơn.
Công nghệ Vapor Chamber hoạt động cụ thể như thế nào?
- Nhiệt độ nóng được truyền tải lập tức và liên tục vào bề mặt tiếp xúc với GPU
- Các chất lỏng bên trong nóng lên và hoạt động, luân chuyển theo các nguyên tắt vật lý cơ bản là di chuyến đến các khu vực nhiệt độ thấp hơn, các chất lỏng ở khu vực nhiệt độ thấp hơn cũng di chuyển cùng lúc lại khu vực nhiệt độ cao.
- Lớp vỏ của Vapor Chamber được dùng là hợp kim đặc biệt, nó vừa phải cứng cáp hợp lý vừa phải có tác dụng truyền tải nhiệt độ tốt nhất có thể, truyền tải nhiệt độ ở đây là ở cả hai phía, một là thu nhiệt độ từ GPU tỏa ra và hai là truyền nhiệt độ vào các chất lỏng ở mặt ngược lại.
- Các chất lỏng bên trong về cơ bản sẽ hoạt động và di chuyển như hình mình họa, ra hai bên và phía trên, mặt bên kia của tấm Vapor.
- Do thiết kế dạng phiến nên về lý thuyết bạn sẽ hình dung được có hai luồng di chuyển cùng lúc như hai vòng xoay song song nhau, từ đó cũng cho ra hiệu quả tản nhiệt tốt hơn so với dạng ống truyền thống là các chất lỏng bị hạn chế khả năng di chuyển hơn.
- Vòng luân chuyển này là liên tục khi hệ thống vẫn còn hoạt động, nhiệt độ GPU càng cao thì tốc độ hoạt động của các chất lỏng bên trong càng lớn nhằm đảm bảo khả năng tản nhiệt vẫn đạt được, chính vì yếu tố này mà độ ổn định về nhiệt độ dễ dàng đạt được hơn.
Ngày nay, công nghệ Vapor-X của Sapphire vẫn tiếp tục được cải tiến và phát triển, nó được kết hợp thêm các giải pháp khác tiên tiến hơn như công nghề hàn và sắp đặt các lá nhôm, kết hợp song song với các heatpipe cũng như quạt làm mát có thiết kế lõi tốt hơn. Mục tiêu cuối cùng của công nghệ là làm giảm nhiệt độ hoạt động của GPU càng nhiều càng tốt, càng nhanh càng tốt và càng ổn định càng tốt, đó cũng chính là những mục tiêu ban đầu và cơ bản của các công nghệ được dùng cho các hệ thống máy chủ, máy trạm cao cấp.
Vapor-X của Sapphire đã mang đến một cấp độ mới về các hệ thống tản nhiệt cho bo mạch đồ họa, công nghệ này đã dẫn đầu và tạo một áp lực lên hàng loạt các thương hiệu khác cũng phải tập trung để cải tiến sản phẩm của họ, nhưng để đạt được hiệu năng tản nhiệt cao trong khi hệ thống vẫn êm ái ít tiếng ồn thì ít ai có thể vượt qua được những công nghệ mà Sapphire đang có.
Nguồn magazine.ocer
